天津滋源环保科技股份有限公司

天津滋源环保科技(多图)-安阳钢铁厂废气处理：

等离子起火多数因电场短路产生电火花，高压产生的电弧等引爆废气，因此等离子适合处理低浓度废气。且设备每个月应将等离子设备级电极组件抽出来清洗一次，每三个月至半年（年限是半年）视情况将等离子设备所有电极抽出清洗一次；

RTO催化燃烧的原因主要是进气浓度和进气量高于设计上线，导致燃烧室温度短时内急剧上升，高温尾气与高浓度有机废气混合会导致RTO排放炸，如果进气口未安装阻火器，会导致进气管道着火；

企业视频展播，请点击播放

视频作者：天津滋源环保科技股份有限公司

催化焚烧治理voc尾气

催化燃烧的基本原理　　

催化燃烧是典型的气-固相催化反应，其实质是活性氧参与的深度氧化作用。在催化燃烧过程中，催化剂的作用是降低活化能，同时催化剂表面具有吸附作用，使反应物分子富集于表面提高了反应速率，加快了反应的进行。借助催化剂可使有机废气在较低的起燃温度条件下，发生无焰燃烧，并氧化分解为CO2和H2O，同时放出大量热能。　　

当有机废气的流量大、浓度低、温度低，采用催化燃烧需耗大量燃料时，可先采用吸附手段将有机废气吸附于吸附剂上进行浓缩，然后通过热空气吹扫，使有机废气脱附出来成为浓缩了的高浓度有机废气（可浓缩10倍以上），再进行催化燃烧。此时，不需要补充热源，就可维持正常运行。　　

对于有机废气催化燃烧工艺的选择主要取决于：燃烧过程的放热量，即废气中可燃物的种类和浓度；起燃温度，即有机组分的性质及催化剂活性；热回收率等。当回收热量超过预热所需热量时，可实现自身热平衡运转，无需外界补充热源，这是经济的。

半导体指的是在常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的一种材料，主要应用于集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域，在半导体工业加工的过程中将会有部分的气体排出，那半导体工业的废气有毒吗，怎么处理好?

半导体工业在加工的过程中会使用到光刻胶、蚀刻液、清洗剂、显影剂等溶剂，而这些溶剂是含有大量的有机物成分，排放出来的废气含有HCl、氨、HF等危险污染物，而主要处理的是具有挥发性的VOCs。

• 上一条：焦作工厂废气净化-工厂废气净化厂家-天津滋源环保科技公司
• 下一条：天津工业用纯水系统-滋源环保科技